High & Low

High & Low Masa Aska Sanurumi TrueTypeUso personal
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Nota del autor

High & Low, a handwritten font designed by Masa Aska Sanurumi, exudes a captivating blend of elegance and playfulness. Its fluid, organic strokes and distinctive character shapes create a sense of effortless, calligraphic beauty, lending an air of sophistication and individuality to any design. The font's striking contrast between thick and thin lines, combined with its organic flow, evokes a sense of movement and energy, making it a captivating choice for a wide range of creative applications.

This versatile font can elevate the visual impact of branding, packaging, editorial layouts, and even digital interfaces. Its unique character lends itself well to projects that require a touch of handcrafted charm, whether it's a luxury product label, a thoughtful invitation, or a visually engaging social media post. The font's versatility allows designers to seamlessly integrate it into various design contexts, making High & Low a valuable addition to any creative arsenal.

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Mapa de caracteres

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Latín básico - Mapa de caracteres

Información básica de fuentes

Familia de fuentes
High & Low
Subfamilia de fuentes
Regular
Identificación de subfamilia única
High & Low:Version 1.00
Nombre completo de fuente
High & Low
Versión de la tabla de nombres
Version 1.00;August 1, 2022;FontCreator 12.0.0.2545 64-bit
Nombre de fuente PostScript
High&Low
Aviso de marca
Masa Aska Sanurumi
Diseñador
Descripción
This font was created using FontCreator 12.0 from High-Logic.com

Información completa de la fuente

Información completa de la fuente

PlataformaCodificación
UnicodeUnicode 2.0 y la semántica en adelante, unicode BMP sólo
MacintoshRomano
MicrosoftSólo unicode BMP

Detalles de fuente

Creado2022-06-30
Revisión1
Conteo de Glifos183
Unidades por Em1200
Derechos de incrustaciónIncrustación para la instalación permanente
Clase de familiaManuscritos
PesoSemiligera
AnchoMediana (normal)
Estilo MacNegrita
DirecciónSólo glifos muy de izquierda a derecha
Naturaleza del patrónOrdinario
PitchNo monoespaciado